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光刻技术引领半导体行业的未来

来源：维思迈财经2024-06-22 09:06:51

在当今数字化时代，半导体行业作为支撑各种高科技产业发展的基石日益引人关注。而在这一众多关键技术中，光刻技术无疑是其中的佼佼者，其影响力和重要性不可小觑。

从最初的简单投影到如今复杂精密的微细加工过程，光刻技术已经成为了半导体制造领域里至关重要且不可或缺的环节。它通过将芯片上电路图案“拷贝”到硅片表面来实现对晶圆进行精确加工，并直接决定着芯片功能、性能乃至整个产品生命周期。

然而，在新一轮科技革命浪潮下，随着5G、人工智能、物联网等前沿应用需求迅速增长, 传统光刻设备所面临挑战也愈发凸显：尺寸趋向极限使得更高分辨率与更大曝光范围之间需要取舍；功耗问题逐渐突出；同时还有由于器件结构变复杂带来特殊形貌处理方面存在明显局限等。

因此，在这样一个背景下，“多模式深紫外（EUV）”成为了当前国际集中探索和竞相攀比以提供解决方案的焦点之一。“7nm以下制程节点只有EUV才具备商用条件”，华尔街见闻指出道。据介绍,EUV 相较于目前常规 ArF 晰境镜版本 (193 nm) 的优势主要包含三个方面:第一是可以获得非常好地分辨率; 其次是纠偏效果十分理想; 最后就是艇岛效应被剥离。(以上内容来源网络)

虽然中国近年来开始积极布局自主研发及推动本土企业进入该领域并取得阶段性成功,但令人忧心忡忡地看到我们距离顶级水平依旧存在巨大鸿沟，能否走出完全自主知识产权路径？是否会又演变成"核心雕玲珑外廓毛坦厚" 等待时间考验(参考文汇报)?

总言之, 在未来数十年内 , 高端先进装备市场互联网信息量爬满天涯海角. 行百里者半九十. 只有始终保持敢问若何创新永无止境才可能真正立稳脚根迎风奋勇否则徘徊原处或让他山俱峻展示遗憾!

未来半导体行业光刻技术

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